微焦點(diǎn)X射線(xiàn)系統(tǒng)是新一代X射線(xiàn)系統(tǒng)，采用平臺(tái)式檢測(cè)設(shè)計(jì)，各種模塊都可以即插即用、用戶(hù)可以根據(jù)其現(xiàn)在或?qū)?lái)的檢測(cè)需求，選擇合適的功能模塊。主要用于檢測(cè)電子線(xiàn)路板，半導(dǎo)體產(chǎn)品、微電子元件及電路板焊接器件、鑄件等的看不見(jiàn)部分的焊接或鑄造缺陷檢測(cè)、多層綁定芯片的內(nèi)部看不見(jiàn)的缺陷檢測(cè)。

　　在微焦點(diǎn)X射線(xiàn)系統(tǒng)檢查期間，扇形X射線(xiàn)穿過(guò)待檢查的樣本，然后在圖像檢測(cè)器上形成放大的X射線(xiàn)圖像。圖像的質(zhì)量由三個(gè)主要點(diǎn)決定：放大率，分辨率和對(duì)比度，圖像分辨率（清晰度）主要由X射線(xiàn)源的焦點(diǎn)大小決定，圖像的幾何放大率由X射線(xiàn)路徑的幾何特性確定。

　　在進(jìn)行微焦點(diǎn)X射線(xiàn)檢測(cè)時(shí)，常規(guī)微射線(xiàn)檢測(cè)存在很大差異：我們通常不需要考慮圖像半影的大小，即通常不考慮幾何清晰度的影響，原因是當(dāng)焦點(diǎn)尺寸足夠小時(shí)，可以忽略半影。因此，當(dāng)X射線(xiàn)視野在可接受范圍內(nèi)，我們可以最小化從樣品到焦點(diǎn)的距離。

　　為什么要使用微焦點(diǎn)X射線(xiàn)系統(tǒng)，主要是為了達(dá)到納米級(jí)直徑跳躍誤差和運(yùn)動(dòng)精度，確保樣品在測(cè)試過(guò)程中的穩(wěn)定性，保證圖像的高清畫(huà)質(zhì)，同時(shí)具有樣品運(yùn)動(dòng)自適應(yīng)校正功能，有效降低了樣品掃描過(guò)程中運(yùn)動(dòng)和變形引起的不良重建效果。

　　進(jìn)行微焦點(diǎn)X射線(xiàn)檢測(cè)，當(dāng)焦距很近時(shí)，錐束角或視場(chǎng)范圍非常重要。例如，25°錐角的微焦點(diǎn)X射線(xiàn)機(jī)的曝光次數(shù)要小于15°錐角的微焦點(diǎn)X射線(xiàn)機(jī)在檢測(cè)相同范圍時(shí)的曝光次數(shù)。

　　另一個(gè)需要考慮的是焦點(diǎn)到X射線(xiàn)管窗口外表面的距離，它決定了被檢樣品到焦點(diǎn)的最小距離。 這一參數(shù)的重要性在于它決定了一個(gè)微焦點(diǎn)系統(tǒng)可能達(dá)到的最大放大倍數(shù)。 由于防護(hù)設(shè)施空間的局限以及射線(xiàn)的衰減與距離的平方成反比（I/R2 ），我們無(wú)法隨意拉長(zhǎng)膠片或探測(cè)器到射線(xiàn)源的距離以增大放大倍數(shù)。